简介： 本发明属于金属氧化物涂层技术领域，公开了一种低温反应溅射沉积纳米α‑Al2O3涂层的方法。将Al粉及α‑Al2O3粉用粉末冶金的方法制成复合材料，切割成设备所需的尺寸后作为沉积靶材和工件基体分别安装在射频磁控溅射的靶工位和沉积腔室样品台上，排除沉积腔室残留的水蒸汽后抽至本底真空，然后注入Ar+O2混合气体进行预氧化处理；调整Ar+O2混合气中的O2分压至15％～25％范围，并调整工件基体温度至550～750℃范围，启动射频磁控溅射镀膜系统，开始反应沉积得到所述纳米α‑Al2O3涂层。本发明所得涂层为纳米晶结构涂层，韧性好，与基体结合牢固，涂层在相对较低的温度下具有稳定的α相结构。