简介： 本发明公开了一种基于氮化碳的土霉素残留物清除剂的制备方法，具体为：首先，将MoS₂、g‑C₃N₄和去离子水混合，超声处理；放入高压釜中，进行水热反应，得到MoS₂/g‑C₃N₄复合物；将MoS₂/g‑C₃N₄复合物分散于去离子水和甲醇的混合溶液中，搅拌，之后向溶液中加入氯金酸溶液，使用氙灯对其照射，并用气泵进行鼓气；洗涤，干燥，得到AuNPs/MoS₂/g‑C₃N₄三相复合材料，即为土霉素残留物清除剂。利用纳米金和MoS₂双重敏化的g‑C₃N₄复合材料，能对抗生素残留物进行清除，制备过程对设备要求低、反应条件温和，合成工艺简单易于实现。