简介： 一种紫外微图形化氧化物薄膜的制备方法及薄膜晶体管，氧化物薄膜的制备方法包括如下步骤，将氧化物前驱体溶液通过非真空法在基底上形成氧化物前驱体薄膜,用紫外光通过具有图形的掩膜板对氧化物前驱体薄膜进行曝光，氧化物前驱体薄膜受紫外光照射的部分化学性质发生变化，未照射部分化学性质不变,再经显影液浸泡显影实现图形化；其中，前驱体溶液和显影液中所使用的溶剂均为水且不含其它有机添加剂。氧化物薄膜呈半导体、绝缘体或者导体性质。本发明能实现氧化物薄膜的有效图形化，工艺简单，对膜层无污染，图形化过程能有效减少膜层中所含杂质，且能实现低温制备高质量氧化物或复合材料薄膜。所制备薄膜晶体管性能良好，工艺简单，适用范围广。