简介： 本发明公开了非离子-阴离子复合插层型有机蒙脱石极其制备方法,该方法包括以下步骤:提纯蒙脱石;对蒙脱石进行水化处理:将提纯后的蒙脱石制成水悬浮液,通过机械搅拌与超声作用混合的方式进行水化处理;制备非离子-阴离子复合插层型有机蒙脱石材料:使用有机非离子型表面活性剂和阴离子型表面活性剂,在超声分散作用和机械搅拌作用下,协同对蒙脱石进行插层。本发明的有机蒙脱石层间距高,热稳定性高,在有机相中分散均匀,剥离程度高,性能优异,可作为一种性能优异的填料应用到制备高分子纳米复合材料领域。