简介： 本发明公开了一种电子束加工铜‑石墨烯复合纳米图形的方法，先在提供的衬底上旋涂一层环烷酸铜薄膜；利用电子束曝光技术对样品进行曝光经显影后得到预设的环烷酸铜纳米图形；然后对样品进行退火处理得到铜‑石墨烯复合材料的纳米图形，本发明解决了传统微纳加工无法制造具有极小特征尺寸复合材料纳米结构图形的不足，同时由于不需要进行金属的沉积降低了生产成本。