简介： 本发明公开了本发明涉及一种真空电子束镀膜的方法，属于镀膜技术领域。本发明要解决的技术问题是提供一种成本低、无污染、高效率、高质量的镀厚膜的方法，该方法采用真空电子束镀膜，包括：将镀膜金属置入真空电子束镀膜装置中，以铁基材料为基底材料，将基底材料温度加热至400～1200℃，设置电子束功率不小于20KW，控制电子束炉工作腔真空度为10～10^‑3Pa，进行镀膜，镀膜完成，冷却至不超过300℃，得镀膜复合材料。本发明方法可获得镀膜厚度大、耐腐蚀的镀膜复合材料，具有低成本、无污染、速度快和高效率的特点。