简介： 本发明涉及光催化抗菌材料技术领域，且公开了一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜，包括以下配方原料及组分：WO₃‑Ag₃PO₄‑TiO₂‑蒙脱土复合材料、硅烷偶联剂、低密度聚乙烯、聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯、抗氧化剂。该一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜，在有机蒙脱土表面生成纳米TiO₂，有效减少纳米TiO₂团聚和聚集，Fe掺杂WO₃和Ag₃PO₄共同修饰纳米TiO₂，Fe掺杂增强了WO₃在可见光吸收波段的光化学活性，TiO₂光辐射下价带上产生空穴与羟基基团或者水分子，生成羟基自由基，WO₃导带产生的光生电子与氧气反应生产超氧自由基，破坏了微生物的生长和繁殖，聚乙烯包覆住WO₃‑Ag₃PO₄‑TiO₂‑蒙脱土复合材料，使WO₃‑Ag₃PO₄‑TiO₂‑蒙脱土复合材料均匀分散在聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯中。