简介： 本发明涉及一种碳化硅基致密硅涂层及其制备方法与应用、光学反射镜，属于材料领域。制备方法包括：采用等离子喷涂‑物理气相沉积方法将含有Si元素的涂层沉积于基体的表面，基体的原料包括碳化硅基复合材料，碳化硅基复合材料包括SiC/SiC复合材料。该制备与传统制备技术相比，可减少涂层中的热应力和裂纹数量，抛光后可满足目前太空反射镜光学要求。制备而得的碳化硅基致密硅涂层致密均匀、硬度适中、抛光性好，热变形系统小、抗热震性好，具有较佳的热性能及机械性能且耐环境能力强。