简介： 本实用新型公开了一种复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备，包括处理箱体，所述处理箱体上设置有冷泵，所述冷泵与处理箱体内贯通连接，所述冷泵上设置有分子泵，所述处理箱体内设置有轨道架和离子源，所述轨道架上设置有产品固定架，所述轨道架带动产品固定架移动，所述离子源朝向产品固定架设置，所述处理箱体位于产品固定架移动方向的两侧均设置有箱门。本实用新型能够去除镀膜腔体工艺温度降低导致的高湿度和高放气量，脱落空气中游离的杂质并抽离，提高单位腔体抽真空效率和维护真空度稳定,从而保证后续镀膜的良率。