简介： 本发明公开了一种Cu/Si纳米多孔阵列复合材料的制备方法。本发明用浸渍镀膜技术制备Cu/Si纳米多孔阵列复合纳米材料的方法,可以对复合纳米体系中纳米颗粒尺寸、晶粒和形貌进行人为控制;该方法能将纳米Cu均匀地沉积在多孔硅上,并保持基底多孔硅原有的分布均匀、孔隙率高、呈柱状阵列的微米—纳米结构特点;该工艺具有仪器简单、操作方便的特点。