简介： 本发明提供一种银钽复合材料构建的有序多孔阵列及其制备方法，采用磁控溅射沉积银、钽复合薄膜，将清洗干净的单晶硅片真空下并沉积铬膜；然后控制电流强度，分别精确调控银、钽元素沉积速率，维持腔室反应压力，持续溅射沉积，钽元素封堵银在沉积过程中形成的间隙，在适当的银、钽元素沉积速率下形成银钽复合材料构建的有序多孔阵列。随着钽沉积速率的增加，薄膜表面孔状阵列会被钽元素大量封堵，进一步形成更为光滑的薄膜表面形貌。本发明所制备的银钽复合材料有序多孔阵列制备过程简单，比表面积大，便于大面积生长，成本低，薄膜表面无有机化合物污染，能广泛应用于SERS传感、金属催化、纳米探针、光电器件、太阳能电池，吸附材料等领域。