简介:
一种形成电子发射极的方法,包括步骤:(I)形成一种含毫微结构的材料;(II)形成一种含毫微结构材料和一种基质材料的混合物;(III)通过电泳淀积方法在基片至少一个表面的至少部分上淀积一层该混合物;(IV)烧结或熔化该层从而形成一种复合材料;和(V)用电化学方法蚀刻该复合材料,除去其表面上的基质材料,从而暴露含毫微结构的材料。
一种形成电子发射极的方法,包括步骤:(I)形成一种含毫微结构的材料;(II)形成一种含毫微结构材料和一种基质材料的混合物;(III)通过电泳淀积方法在基片至少一个表面的至少部分上淀积一层该混合物;(IV)烧结或熔化该层从而形成一种
复合材料;和(V)用
电化学方法蚀刻该复合材料,除去其表面上的基质材料,从而暴露含毫微结构的材料。