简介:
本发明公开了一种具有夹层结构的高导热、低膨胀Diamond‑Cu复合材料的制备方法,属于电子封装材料技术领域。该复合材料由体积分数为35~50%的铜合金、体积分数为50~65%的经过改性的金刚石颗粒组成。制备过程为:1)采用真空蒸镀对金刚石表面进行表面镀Cr处理;2)将熔炼的铜合金进行雾化制粉;3)按照设计的体积百分比,将镀Cr金刚石粉末和铜合金充分混合;4)配料并装入模具,在复合材料的上下表面提前预置铜合金粉末;5)热压烧结。本发明首先采用金刚石表面镀膜工艺对金刚石进行改性,提高与铜基体的润湿性;同时采用夹层结构制备了Diamond‑Cu复合材料,致密度高、组织均匀,后续加工简单,表面粗糙度可达<1um Ra,为后续工艺的制定和难点突破提供参考。
本发明公开了一种具有夹层结构的高导热、低膨胀Diamond‑Cu
复合材料的制备方法,属于电子封装材料技术领域。该复合材料由体积分数为35~50%的
铜合金、体积分数为50~65%的经过改性的金刚石颗粒组成。制备过程为:1)采用真空蒸镀对金刚石表面进行表面镀Cr处理;2)将熔炼的
铜合金进行雾化制粉;3)按照设计的体积百分比,将镀Cr金刚石粉末和铜合金充分混合;4)配料并装入模具,在复合材料的上下表面提前预置铜合金粉末;5)热压烧结。本发明首先采用金刚石表面镀膜工艺对金刚石进行改性,提高与铜基体的润湿性;同时采用夹层结构制备了Diamond‑Cu复合材料,致密度高、组织均匀,后续加工简单,表面粗糙度可达<1um Ra,为后续工艺的制定和难点突破提供参考。