光敏半导体Zr-TCPP MOFs负载Ag纳米粒子复合材料的制备方法及其抗菌应用
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光敏半导体Zr-TCPP MOFs负载Ag纳米粒子复合材料的制备方法及其抗菌应用
来源:北方有色网
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简介: 本发明属于纳米复合材料制备技术领域,涉及光催化复合抗菌材料,尤其涉及一种光敏半导体Zr‑TCPP MOFs结构负载Ag纳米粒子复合材料ZMP‑Ag的制备方法,将ZrCl4、苯甲酸加入DMF中混匀,再加入水和卟啉,混合均匀成溶液,移入反应釜,50~200℃水热反应1~48 h,离心分离清洗,制得Zr‑TCPP MOFs(ZPM);再将ZPM溶于0.1~10 mM的AgNO3溶液,移入反应釜,50~200℃持续反应1~48 h,离心分离清洗,制得ZMP‑Ag。本发明通过水热法制备出高效稳定的光催化抗菌材料ZPM‑Ag,制备方法简单,可操作性好;ZPM‑Ag在六次循环运行中表现出良好的稳定性,且毒性低和环境友好的抗菌材料。因此,较高的可见光利用率和优异的杀菌性能使ZPM‑Ag在抗菌方面具有广阔的应用前景。
本发明属于纳米复合材料制备技术领域,涉及光催化复合抗菌材料,尤其涉及一种光敏半导体Zr‑TCPP MOFs结构负载Ag纳米粒子复合材料ZMP‑Ag的制备方法,将ZrCl4、苯甲酸加入DMF中混匀,再加入水和卟啉,混合均匀成溶液,移入反应釜,50~200℃水热反应1~48 h,离心分离清洗,制得Zr‑TCPP MOFs(ZPM);再将ZPM溶于0.1~10 mM的AgNO3溶液,移入反应釜,50~200℃持续反应1~48 h,离心分离清洗,制得ZMP‑Ag。本发明通过水热法制备出高效稳定的光催化抗菌材料ZPM‑Ag,制备方法简单,可操作性好;ZPM‑Ag在六次循环运行中表现出良好的稳定性,且毒性低和环境友好的抗菌材料。因此,较高的可见光利用率和优异的杀菌性能使ZPM‑Ag在抗菌方面具有广阔的应用前景。
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标签:复合材料
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