简介： 本发明涉及一种光磁响应的自修复形状记忆复合材料及其制备和应用，属于功能复合材料技术领域。本发明提供一种光磁响应的自修复形状记忆复合材料，所述复合材料包括下述比例的原料：形状记忆聚合物基体100重量份，功能填料1～20重量份；其中，所述功能填料为能够同时响应光和磁刺激的填料。本发明所得光磁响应的自修复形状记忆复合材料可同时响应光和磁刺激，协同控制实现形状重构和可逆变化，同时具有优异的形状记忆辅助自修复性能。