具有三阶非线性光学性质的复合材料及其制备方法
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具有三阶非线性光学性质的复合材料及其制备方法
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简介: 本发明公开了一种具有三阶非线性光学性质的复合材料的制备方法,使制得的复合材料同时具有磁性,该复合材料由纳米四氧化三铁、纳米硫化镉修饰聚噻吩而得,所述聚噻吩用高锰酸钾氧化噻吩制得,四氧化三铁和硫化镉分别用原位生成法制备,纳米四氧化三铁与聚噻吩以配位键连接,纳米硫化镉包裹在纳米四氧化三铁表面,纳米粒子粒径为2~20nm,在整个复合材料中的含量为0.1~1mol/mol。该复合材料在532nmNd:YAG激光光源激发下,对激光有较强的非线性折射和吸收,非线性极化率比纳米粒子及高分子强2~4倍。本发明获得的材料具有磁性,在采用所述PTh-Fe3O4/CdS材料制备高分子纳米复合薄膜时,可通过磁场或电场对高分子纳米复合材料的自组装结构进行设计,提高材料的性能。
本发明公开了一种具有三阶非线性光学性质的复合材料的制备方法,使制得的复合材料同时具有磁性,该复合材料由纳米四氧化三铁、纳米硫化镉修饰聚噻吩而得,所述聚噻吩用高酸钾氧化噻吩制得,四氧化三铁和硫化镉分别用原位生成法制备,纳米四氧化三铁与聚噻吩以配位键连接,纳米硫化镉包裹在纳米四氧化三铁表面,纳米粒子粒径为2~20nm,在整个复合材料中的含量为0.1~1mol/mol。该复合材料在532nmNd:YAG激光光源激发下,对激光有较强的非线性折射和吸收,非线性极化率比纳米粒子及高分子强2~4倍。本发明获得的材料具有磁性,在采用所述PTh-Fe3O4/CdS材料制备高分子纳米复合薄膜时,可通过磁场或电场对高分子纳米复合材料的自组装结构进行设计,提高材料的性能。
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