简介： 本发明涉及纳米插层复合材料领域,公开了一种全新的聚合物/层状硅酸盐纳米插层复合材料的制备方法。该方法采用单体、层状硅酸盐在引发剂下合成,合成过程在超临界二氧化碳中进行,反应温度31.2～200℃,反应压力7.5～150MPa。本发明提供的方法简单易行、体系散热较好,反应平稳,不易发生爆聚,安全实用,该方法也不需要溶剂回收设备,最终产物易分离纯化,不需要洗涤干燥设备以及大量的热能消耗,制得复合材料中层状硅酸盐可达到纳米级分散。