简介:
本披露提供一种用于处理采出物质的设备。该设备包括用于产生电磁辐射的一个源,和用于使该采出物质的碎片暴露于该电磁辐射中的一个微波入口区。此外,该设备包括一个反射结构,该反射结构邻近该微波入口区并且提供或包围用于将该采出物质的这些碎片导引到该微波入口区上的一个通道。该反射结构被安排成在该采出物质的这些碎片通过过程中减弱该电磁辐射从该微波入口区向该通道中的穿透。
本披露提供一种用于处理采出物质的设备。该设备包括用于产生电磁辐射的一个源,和用于使该采出物质的碎片暴露于该电磁辐射中的一个微波入口区。此外,该设备包括一个反射结构,该反射结构邻近该微波入口区并且提供或包围用于将该采出物质的这些碎片导引到该微波入口区上的一个通道。该反射结构被安排成在该采出物质的这些碎片通过过程中减弱该电磁辐射从该微波入口区向该通道中的穿透。