简介： 本发明公开了一种青瓷的制备方法，所述青瓷采用矿物质原料和高分子材料制备胚料和釉料，所述胚料包括组分A、组分B及组分C，所述制备方法包括以下步骤：S1：组分A、组分B及组分C的制备；S2：胚料的浆料制备；S3：胚体成型；S4：胚体素烧：所述素烧包括第一阶段、第二阶段及第三阶段；所述第二阶段温度区间为200°‑600°，期间升温速度为1‑2°/min，窑内气压保持在0.2‑0.3MPa，升至600°时保温20‑30分钟；S5：釉料的釉浆制备；S6：上釉；S7:釉烧。本发明的制备方法不仅生产成本低、适合批量生产，并且通过合理控制素烧、釉烧不同阶段的升温速度、窑内气压及处理时间，提高了成品率，使得生产出来的青瓷强度高、不易破碎、瓷质细腻、光泽高。