权利要求
1.一种镁合金熔炼用真空导液装置,包括密封坩埚,其特征在于,
还包括密封盖、导液管、真空管、连接管、氩气瓶和真空压力表;
所述密封盖与所述密封坩埚连接,并位于所述密封坩埚的顶部,所述导液管与所述密封盖连接,并穿过所述密封盖,所述真空管与所述密封盖固定连接,并穿过所述密封盖,所述连接管与所述密封盖连接,并位于所述密封盖的顶部,所述氩气瓶与所述连接管连接,并位于所述连接管远离所述密封坩埚的一侧,所述真空压力表与所述密封盖固定连接,并位于所述密封盖的顶部。
2.如权利要求1所述的镁合金熔炼用真空导液装置,其特征在于,
所述镁合金熔炼用真空导液装置还包括法兰螺栓和石墨盘根,所述密封盖通过所述法兰螺栓固定在所述密封坩埚的顶部,所述密封盖与所述密封坩埚之间通过所述石墨盘根进行密封。
3.如权利要求1所述的镁合金熔炼用真空导液装置,其特征在于,
所述镁合金熔炼用真空导液装置还包括熔炼坩埚和盖板,所述熔炼坩埚与所述导液管连接,并位于所述导液管远离所述密封坩埚的一侧,所述盖板与所述熔炼坩埚固定连接,并位于所述熔炼坩埚的顶部。
4.如权利要求3所述的镁合金熔炼用真空导液装置,其特征在于,
所述导液管中间部分采用倾斜85°结构,直径70mm,所述导液管的左侧连接并穿至所述熔炼坩埚的中部,所述导液管的右侧与坩埚盖为一体,倾斜13°伸入所述密封坩埚,靠近所述密封坩埚内壁。
5.如权利要求1所述的镁合金熔炼用真空导液装置,其特征在于,
所述镁合金熔炼过程的真空导液装置还包括连接球阀,所述连接球阀与所述真空管固定连接,并位于所述真空管的外侧。
说明书
技术领域
[0001]本实用新型涉及镁合金冶金技术领域,尤其涉及一种镁合金熔炼用真空导液装置。
背景技术
[0002]在传统镁合金熔炼中,镁易氧化,导致合金纯度下降和缺陷增多;同时,为改善流动性而添加的溶剂难以完全去除,影响合金性能;此外,熔炼过程中夹杂物去除不彻底,进一步影响铸件质量。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的在于提供一种镁合金熔炼用真空导液装置,解决了在传统镁合金熔炼中,镁易氧化,杂质去除不彻底,导致合金纯度,性能和质量下降的问题。
[0004]为实现上述目的,本实用新型提供了一种镁合金熔炼用真空导液装置,包括密封坩埚、密封盖、导液管、真空管、连接管、氩气瓶和真空压力表;所述密封盖与所述密封坩埚连接,并位于所述密封坩埚的顶部,所述导液管与所述密封盖连接,并穿过所述密封盖,所述真空管与所述密封盖固定连接,并穿过所述密封盖,所述连接管与所述密封盖连接,并位于所述密封盖的顶部,所述氩气瓶与所述连接管连接,并位于所述连接管远离所述密封坩埚的一侧,所述真空压力表与所述密封盖固定连接,并位于所述密封盖的顶部。
[0005]其中,所述镁合金熔炼用真空导液装置还包括法兰螺栓和石墨盘根,所述导液管采用分体式结构,所述密封盖通过所述法兰螺栓108固定在所述密封坩埚的顶部,所述密封盖与所述密封坩埚之间通过所述石墨盘根进行密封。
[0006]其中,所述镁合金熔炼用真空导液装置还包括熔炼坩埚和盖板,所述熔炼坩埚与所述导液管连接,并位于所述导液管远离所述密封坩埚的一侧,所述盖板与所述熔炼坩埚固定连接,并位于所述熔炼坩埚的顶部。
[0007]其中,所述导液管中间部分采用倾斜85°结构,直径70mm,所述导液管的左侧连接并穿至所述熔炼坩埚的中部,所述导液管的右侧与坩埚盖为一体,倾斜13°伸入所述密封坩埚,靠近所述密封坩埚内壁。
[0008]其中,所述镁合金熔炼过程的真空导液装置还包括连接球阀,所述连接球阀与所述真空管固定连接,并位于所述连接球阀的外侧。
[0009]本实用新型的镁合金熔炼用真空导液装置,所述密封坩埚用于对镁液进行氧化,所述密封盖用于对所述密封坩埚进行密封,所述导液管用于将所述熔炼坩埚内的镁液吸入所述密封坩埚中,所述真空管用于将真空发生装置与所述密封坩埚连接,通过所述连接管将所述氩气瓶与所述密封坩埚连接,所述氩气瓶用于对所述密封坩埚中提供氩气,所述真空压力表用于将所述密封坩埚内的压力向外界展示,便于对所述密封坩埚内的压力进行检测,所述通过所述连接球阀连接的真空发生装置降低所述密封坩埚内部空气含量,并通过所述导液管将所述熔炼坩埚中间位置的纯净镁液吸入所述密封坩埚中,防止镁液氧化的同时有效降低溶剂含量,从而大大降低了镁铸棒中的夹杂缺陷,解决了在传统镁合金熔炼中,镁易氧化,杂质去除不彻底,导致合金纯度,性能和质量下降的问题。
附图说明
[0010]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0011]图1是本实用新型的第一实施例的镁合金熔炼用真空导液装置的整体结构示意图。
[0012]图中:101-密封坩埚、102-密封盖、103-导液管、104-真空管、105-连接管、106-氩气瓶、107-真空压力表、108-法兰螺栓、109-石墨盘根、110-熔炼坩埚、111-盖板、112-连接球阀。
具体实施方式
[0013]下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
[0014]本申请第一实施例为:
[0015]请参阅图1,其中,图1是本实用新型的第一实施例的镁合金熔炼用真空导液装置的整体结构示意图,本实用新型提供一种镁合金熔炼用真空导液装置,包括密封坩埚101、密封盖102、导液管103、真空管104、连接管105、氩气瓶106、真空压力表107、法兰螺栓108、石墨盘根109、熔炼坩埚110、盖板111和连接球阀112;通过前述方案解决了在传统镁合金熔炼中,镁易氧化,杂质去除不彻底,导致合金纯度,性能和质量下降的问题。
[0016]针对本具体实施方式,所述密封盖102与所述密封坩埚101连接,并位于所述密封坩埚101的顶部,所述导液管103与所述密封盖102连接,并穿过所述密封盖102,所述真空管104与所述密封盖102固定连接,并穿过所述密封盖102,所述连接管105与所述密封盖102连接,并位于所述密封盖102的顶部,所述氩气瓶106与所述连接管105连接,并位于所述连接管105远离所述密封坩埚101的一侧,所述真空压力表107与所述密封盖102固定连接,并位于所述密封盖102的顶部,所述密封坩埚101用于对镁液进行氧化,所述密封盖102用于对所述密封坩埚101进行密封,所述导液管103用于将所述熔炼坩埚110内的镁液吸入所述密封坩埚101中,所述真空管104用于将真空发生装置与所述密封坩埚101连接,通过所述连接管105将所述氩气瓶106与所述密封坩埚101连接,所述氩气瓶106用于对所述密封坩埚101中提供氩气,所述真空压力表107用于将所述密封坩埚101内的压力向外界展示,便于对所述密封坩埚101内的压力进行检测,所述通过所述连接球阀112连接的真空发生装置降低所述密封坩埚101内部空气含量,并通过所述导液管103将所述熔炼坩埚110中间位置的纯净镁液吸入所述密封坩埚101中,防止镁液氧化的同时有效降低溶剂含量,从而大大降低了镁铸棒中的夹杂缺陷。
[0017]其中,所述导液管103采用分体式结构,所述密封盖102通过所述法兰螺栓108固定在所述密封坩埚101的顶部,所述密封盖102与所述密封坩埚101之间通过所述石墨盘根109进行密封,所述法兰螺栓108用于将所述密封盖102固定,所述石墨盘根109用于对所述密封盖102进行密封,避免所述密封坩埚101内的空气含量增加。
[0018]其次,所述熔炼坩埚110与所述导液管103连接,并位于所述导液管103远离所述密封坩埚101的一侧,所述盖板111与所述熔炼坩埚110固定连接,并位于所述熔炼坩埚110的顶部,所述熔炼坩埚110用于熔炼镁液,所述盖板111用于对所述熔炼坩埚110进行密封,避免杂质落入所述熔炼坩埚110中。
[0019]再次,所述导液管103中间部分采用倾斜85°结构,所述导液管103直径70mm,所述导液管103的左侧连接并穿至所述熔炼坩埚110的中部,所述导液管103的右侧与坩埚盖为一体,倾斜13°伸入所述密封坩埚101,靠近所述密封坩埚101内壁,穿至所述熔炼坩埚110中部的所述导液管103容易将所述熔炼坩埚110中部的纯净镁液吸入所述导液管103中,再导入导入所述密封坩埚101中。
[0020]最后,所述连接球阀112与所述真空管104固定连接,并位于所述连接球阀112的外侧,所述连接球阀112用于对真空发生装置的速率进行控制,避免所述密封坩埚101中的压力过低,导致所述密封坩埚101内抽入空气。
[0021]使用本实施例的镁合金熔炼用真空导液装置,所述密封坩埚101用于对镁液进行氧化,所述密封盖102用于对所述密封坩埚101进行密封,所述导液管103用于将所述熔炼坩埚110内的镁液吸入所述密封坩埚101中,所述真空管104用于将真空发生装置与所述密封坩埚101连接,通过所述连接管105将所述氩气瓶106与所述密封坩埚101连接,所述氩气瓶106用于对所述密封坩埚101中提供氩气,所述真空压力表107用于将所述密封坩埚101内的压力向外界展示,便于对所述密封坩埚101内的压力进行检测,所述通过所述连接球阀112连接的真空发生装置降低所述密封坩埚101内部空气含量,并通过所述导液管103将所述熔炼坩埚110中间位置的纯净镁液吸入所述密封坩埚101中,防止镁液氧化的同时有效降低溶剂含量,从而大大降低了镁铸棒中的夹杂缺陷,解决了在传统镁合金熔炼中,镁易氧化,杂质去除不彻底,导致合金纯度,性能和质量下降的问题。
[0022]以上所揭露的仅为本申请一种或多种较佳实施例而已,不能以此来限定本申请之权利范围,本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程,并依本申请权利要求所作的等同变化,仍属于本申请所涵盖的范围。
说明书附图(1)