简介:
本发明涉及一种利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法,属于物理技术材料改性技术领域。本发明的特点是将蛇纹石粉末放入离子注入机中,并对离子注入机的腔体进行抽真空,真空度要求为1×10-3-1×10-6Torr;以离子形式注入NH3,离子注入能量为30-60kev;注入通量为1×1017cm-2;注入时间为3-20min;最后将经离子注入后的样品取出,即获得有“N”元素注入的蛇纹石样品。
本发明涉及一种利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法,属于物理技术材料改性技术领域。本发明的特点是将蛇纹石粉末放入离子注入机中,并对离子注入机的腔体进行抽真空,真空度要求为1×10-3-1×10-6Torr;以离子形式注入NH3,离子注入能量为30-60kev;注入通量为1×1017cm-2;注入时间为3-20min;最后将经离子注入后的样品取出,即获得有“N”元素注入的蛇纹石样品。