简介： 一种在氧化焰气氛下低温制备青瓷釉料的方法，所述青瓷釉料的制备步骤包括原料处理、釉浆制备、施釉和烧成，所述原料及其配比为：透明熔块90～92wt％、苏州土8～10wt％，原料中加入添加剂及其配比为：羧甲基纤维素钠0.2～0.4wt％、多聚磷酸钠0.2～0.4wt％、氧化铬0.1～0.3wt％；所述烧成温度为1080～1120℃，烧成气氛为空气气氛。本发明制备的青瓷釉料能耗低。与传统的青瓷釉料采用多种矿物原料相比，本发明的青瓷釉在1080～1120℃下即可烧成，可降低青瓷釉烧成过程中的能耗；青瓷釉料在氧化焰气氛下烧成，烧成制度稳定可控，操作简单，而且得到的釉料呈色稳定，易于生产控制。