简介： 本发明属于陶瓷砖制备技术领域，具体的涉及一种自清洁陶瓷砖及其制备方法。所述的自清洁陶瓷砖，包括陶瓷砖基体以及涂覆于陶瓷砖基体表面的自清洁涂层；所述的陶瓷砖基体由以下原料组成：高岭土、煅烧铝矾土、硅藻土、焦宝石、莫来石、菱镁矿、锂基蒙脱土、偏硅酸钙、硅酸锆、碳化硅；所述的自清洁涂层，包括以下原料：纳米氧化锌、纳米氧化铈、1H,1H,2H,2H‑十三氟辛基三甲基硅烷、二甲基硅油、十七氟癸基三乙氧基硅烷。本发明所述的自清洁陶瓷砖，陶瓷砖基体与自清洁涂层的结合力强，具有很好的耐高温性能和机械性能；自清洁涂层满足结构致密的同时，还具有优异的憎水性、憎油性、机械性能和耐腐蚀性。