简介： 一种硅片划痕抛光剂，涉及硅材料加工技术领域，由以下重量份的原料制成：乙酸异辛酯3‑5份、聚丙烯酰胺4‑6份、十二烷基苯磺酸钠6‑8份、硝基苯5‑7份、金刚石微粉10‑20份、三乙醇胺2‑4份、石蜡油12‑14份、水杨酸钠6‑8份、抗氧剂5‑7份、氧化镁1‑3份、硬脂酸2‑4份、云母粉2‑4份、空心玻璃微珠2‑4份、矿物油5‑7份、油酸三乙醇胺2‑4份、炭黑3‑5份、络合剂6‑8份、去离子水80‑100份。本发明的有益效果为：本发明采用的原材料丰富廉价，制作工艺简便，适用于硅片的划痕修复，对硅片本身没有损伤，使用方便，效果显著，便于推广及使用。