半导体用超高纯金属溅射靶材
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半导体用超高纯金属溅射靶材
来源:宁波江丰电子材料股份有限公司
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简介: 高纯铝以及铝合金靶材:1、产品包括:Al、Al30ppmSi,、Al0.5Si、Al0.75Si、Al0.8Si、Al1Si、Al0.5Cu、AlSiCu等;2、纯度为4N~5N5;3、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求;4、能够和客户一起开发特制的各种类型长寿命靶材。高纯钛靶材以及钛环:1、产品包括:4N5钛、5N钛、低氧钛等;2、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求;3、能够为客户提供不同类型特制的长寿命靶材和环件。高纯铜、铜合金靶材以及铜环、铜阳极:1、产品包括:4N铜、4N5铜、5N铜、6N铜以及铜铝、铜锰等合金靶材、纯铜以及CuP阳极材料、纯铜
工作原理 技术参数 选型原则 应用案例 设备结构
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