高纯锗靶材
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高纯锗靶材
来源：北京中科言诺新材料科技有限公司
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简介： 中科言诺生产的锗溅射靶材由高纯锗金属组成。是一种硬而脆的材料，具有半金属，灰白色的外观。它的密度为5.35 g / cc，熔点为937°C，在1,167°C下的蒸气压为10 -4 Torr。在光学存储介质和光学涂层的生产中，它经常在真空下蒸发以形成膜层。这种材料的其他用途是用作合金催化剂。
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高纯锗靶材

中科言诺生产的锗溅射靶材由高纯锗金属组成。是一种硬而脆的材料，具有半金属，灰白色的外观。它的密度为5.35 g / cc，熔点为937°C，在1,167°C下的蒸气压为10 -4 Torr。在光学存储介质和光学涂层的生产中，它经常在真空下蒸发以形成膜层。这种材料的其他用途是用作合金催化剂。
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