PQ2C系列双室真空炉是一款创新设计的智能化热处理设备，采用独立双室结构（预处理室与主处理室），实现工艺流程分段优化。预处理室集成抽真空、预热及脱脂功能，可高效清除工件表面油脂、粘结剂等挥发物，避免高温烧结污染；主处理室则专注高温加热（最高温度可达1320℃）与可控冷却（气淬），确保材料致密化与性能提升。该设备广泛应用与航空航天、电子半导体、医疗器具、精密制造、金属加工、科研与新材料开发等领域，特别适合高附加值、高精度零件的加工，可显著提升产品良率与批次一致性。随着新材料和精密制造需求的增长，其在高端工业与科研领域的应用将持续扩展。

特征

◆预处理室与主处理室均独立控温、真空隔离，支持连续生产，缩短工艺周期

◆预处理室配备梯度升温与真空脱脂系统，精准分解有机物，避免结焦与碳残留

◆两室间配置可靠的真空门，确保预处理室与主处理室完全隔断，保持各室处理时不互相干涉

◆双室独立PLC+工控机管理，支持工艺参数联动编程、数据追溯及远程运维，降低操作复杂度

◆可在不同真空度（10⁻²~10⁻⁶ mbar)，环境下加热工件，避免表面氧化、脱碳，确保材料纯净度和光洁度

◆预处理室与主处理室都采用多区独立控温、结合PID算法，实现±5℃的炉温均匀性，具有很好的控制温度精度

◆主处理室集成气淬（氮气/氩气）系统，结合高效率热交换器，显著提升冷却均匀性，适配不同材料特性

◆集成PLC，搭配程序控制器或计算机界面、触摸屏、记录仪等实时监控炉内真空度、温度、压力等数据，支持远程故障诊断与工艺追溯

通用规格