工作原理

MP-2D通过双电机独立驱动两个磨抛盘（直径200mm/250mm可选），转速范围50-1000rpm无级可调，支持正反转切换以适应不同磨抛需求。设备配备智能压力控制系统，通过气动或液压装置提供0-50N的恒定压力，确保试样与磨抛盘接触均匀。冷却水循环系统可精准控制水流方向与流量，有效带走磨屑并防止试样过热氧化。双盘设计允许用户同时安装不同粒度的砂纸或抛光布，实现“粗磨→精磨→抛光”一站式操作，单试样制备时间较单盘设备缩短40%。

应用范围

产品覆盖多领域金相制样需求：

金属材料：制备钢铁、铝合金、钛合金等试样，观察晶粒度、相组成及夹杂物分布；

热处理检测：分析淬火层、渗碳层深度及硬度梯度；

电子制造：封装半导体芯片、PCB板等微小元件，便于在扫描电镜下检测焊接缺陷；

科研教学：为材料科学、机械工程等专业提供标准化制样工具，支持教学演示与实验研究。

产品技术参数

磨抛盘规格：直径200mm/250mm可选，转速50-1000rpm无级调节，支持正反转；

压力系统：气动/液压驱动，压力范围0-50N，精度±1N；

冷却系统：流量0-5L/min可调，配备可拆卸式喷嘴；

结构参数：外形尺寸800×600×450mm，净重65kg，工作台面高度可调；

安全设计：配备防护罩、紧急停止按钮及过载保护装置，符合CE安全标准。

产品特点

双盘高效协同：独立驱动与压力控制实现多工序同步进行，单批次可处理4-6个试样；

智能参数控制：LCD触控屏支持转速、压力、时间等参数预设，数据可存储并导出；

模块化扩展：可选配磁性磨抛盘、自动滴液装置及粒度分析软件，适配不同材料制样需求；

人性化细节：防滑橡胶脚垫减少振动，排水槽设计便于清洁，维护成本低。

MP-2D以高效、精准、易操作的核心优势，成为金相实验室及工业检测部门的理想选择，助力用户实现制样标准化与检测效率的双重提升。