工作原理

L-200基于微分干涉（DIC）与正交偏光技术，通过渥拉斯顿棱镜将入射光分为两束振动方向垂直的偏振光，经样品表面微小高度差后产生相位差，形成具有立体感的浮雕图像。设备配备无限远光学系统，结合高数值孔径物镜（NA=0.9），可消除传统显微镜的像差与色差，同时支持明场、暗场、偏光及微分干涉四模式切换，满足不同场景的观测需求。

应用范围

该设备覆盖多领域检测需求：在金属材料领域，可分析钢、铝、铜等材料的晶粒度、相组成及非金属夹杂物分布；半导体行业支持晶圆表面缺陷筛查、键合线高度测量及芯片封装层厚度分析；精密制造领域适用于模具表面划痕检测、涂层均匀性评估及微小元器件形貌测量。其高分辨率特性亦适用于生物样本活体观察与高分子材料相分离结构分析。

技术参数

光学系统：无限远校正光学系统，支持50X-1000X连续变倍

物镜配置：配备5X、10X、20X、50X、100X微分干涉物镜，数值孔径（NA）达0.9

照明系统：6V30W卤素灯，亮度可调，支持明暗场照明模式切换

载物台：机械式载物台，移动范围75mm×40mm，带旋转功能

成像模块：支持1080P高清输出，兼容CCD及CMOS传感器

软件功能：内置图像拼接、三维重建及颗粒统计模块，精度±0.1μm

产品特点

高精度成像：采用平场消色差物镜，视场平坦清晰，可捕捉0.1μm级表面缺陷

多模式切换：一键切换明场、暗场、偏光及微分干涉模式，适应多样化检测需求

模块化设计：预留激光共聚焦、光谱分析等附件接口，可升级为多功能分析平台

人性化操作：配备低手位调焦旋钮与360°旋转双目镜筒，降低长时间操作疲劳度