工作原理

设备通过场发射或钨丝电子枪发射高能电子束，经电磁透镜聚焦后扫描样品表面。电子与样品相互作用产生二次电子（SE）、背散射电子（BSE）及特征X射线等信号，探测器捕获信号并转化为高分辨率图像。EVO支持多模式成像（SE/BSE/EDS），结合低真空技术（10-300Pa），可直接观察非导电样品（如塑料、生物组织），无需喷金预处理，确保长时程测试的图像稳定性。

应用范围

该设备广泛应用于半导体行业芯片缺陷检测（如晶圆污染、线路断点）、生物医学领域细胞与组织超微结构观察（如肿瘤细胞形态）、新能源材料中电池电极的纳米级形貌分析（如锂离子电池正负极材料），以及工业检测中金属材料断裂面分析（如疲劳裂纹）。典型应用包括材料失效分析、新产品研发阶段的形貌特征验证，覆盖从实验室到生产线的全流程检测需求。

产品技术参数

分辨率：1nm（15kV，二次电子成像）

加速电压：0.2-30kV（连续可调）

放大倍数：12×-1,000,000×（数字变焦支持）

样品室：直径≤300mm，高度≤50mm（支持多角度倾斜）

电子源：场发射枪（寿命≥2000小时）或钨丝枪（寿命≥1000小时）

真空系统：低真空模式（10-300Pa），可选配无油真空泵

图像采集：16bit高清CCD，支持实时视频输出

电源：220V±10%，50/60Hz，功率≤1500W

尺寸：1500×1200×2000mm（主机），重量≈800kg

软件功能：自动对焦、三维重建、EDS/WDS接口（标配），支持TIFF/JPEG格式输出与多语言界面（中/英/德）。

产品特点

超高分辩率与多模式兼容：1nm分辨率结合SE/BSE/EDS多模式成像，可同步获取形貌与成分信息；低真空模式支持非导电样品直接观察。

智能化操作与扩展性：软件集成AI图像识别，自动标记关键特征；可选配EBSD、CL阴极荧光模块，适配多样化分析需求。

高稳定性与耐用性：OptiBeam技术优化电子束路径，减少漂移；核心部件采用防抖设计，寿命≥30000小时，维护成本低。

用户友好与安全性：触控式界面支持一键式操作，内置教学视频与自动校准功能；符合CE与RoHS标准，配备紧急停机保护与辐射防护装置。

合规性与科研支持：符合ISO/ASTM标准，提供开放API接口，适配第三方分析软件，助力科研定制化需求。

北京创诚致佳科技有限公司代理的Zeiss EVO多模式扫描电镜凭借其卓越的成像性能、多模式分析功能及智能化操作平台，为半导体、生物医学及工业检测领域提供了高效、可靠的微观分析解决方案，助力用户在产品研发与质量控制中实现技术突破与工艺优化。