设备介绍
本CVD系统是由管式炉加热系统，质子流量计供气系统，真空系统和气体定量系统组成，带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计且该CVD反应炉可抽真空、通气氛，该设备适用于各种CVD实验。
产品优势
双层壳体上开启结构
双层壳体上开启结构，取放炉管方便，装有风冷系统,炉子外壳温度保持安全范围内
超温保护和预警功能
内置PID自动调节功能，具有过热和热电偶损坏保护功能，超温保护和报警
温控系统智能精准
控温系统采用PID方式调节，可以设置30段升降温程序，控温精度可以达到±1℃
技术参数
产品名称 两通道CVD系统
产品型号 KJ-T1200-CVDII
管式炉部分
工作温度 ≤1100℃
控温精度 ±1℃
加热速率 建议≤10℃/min
控温模式 可编程智能PID
曲线段数 30段
炉膛长度 440mm(其他尺寸可按客户需求定制)
数据接口 USB
混气系统
测量设备 质量流量控制器
测量量程 500SCCM
气体通道 两通道
连接管道 304不锈钢管
接口模式 卡套接头
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京公网安备 11010702002294号
