设备介绍

定制立式PECVD设备，由真空立式管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、真空测量系统组成。该系统以含钼电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，真空泵接口，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)、石墨烯材料等。

产品优势

沉积效果好

等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜

成品质量好

PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

沉积应力大小可调

可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小

技术参数

产品名称 定制PECVD设备

产品型号 KJ-PECVD-DZ

立式管式炉

炉膛模式 立式开启式

炉膛材料 高纯度氧化铝耐火纤维

加热元件 含钼加热丝

极限温度 1200℃

工作温度 ≤1100℃

升温速率 建议≤10℃/min

加热温区 单温区、多温区

温区长度 200mm、300mm、440可选

(其他尺寸可根据客户需求定制)

炉管材质 高纯石英

炉管直径 40mm/50mm/60mm/80mm/100mm/120mm/150mm可选

(其他尺寸可根据客户需求定制)

密封方式 304不锈钢真空法兰一套(含密封硅胶圈)

控制模式 触屏 30段智能PID程序控温 预留通讯接口

控温精度 ±1℃

温度曲线 多段"时间—温度曲线"任意可设

测温元件 N型热电偶

气路系统

气体通道 可同时连接多种气源

流 量 计 质量流量计

气路压力 -0.1～0.15 MPa

截止阀 不锈钢材质

气体连接管 1/4不锈钢管

等离子电源系统

功率范围 0-100W、0-300W 、0-500W ± 1%

冷却 风冷

数显真空计及连接件

数显真空计 数显真空计安装在不锈钢法兰上

真空泵组(相关连接配件)

真空泵 真空泵,及相应连接管件

汽化系统 ...

蠕动泵 精确度：+/- 0.5% FS

流量: 0 - 10 ml/min，可调，最小速率0.1ml/min