LAP-2000SC触摸屏全自动磨抛机是一款高性能的金相样品制备设备，采用中心加载力方式，一次性固定六个样品，完成全部研磨抛光过程，保证磨抛出各个样品的完整平面。设备独立控制磨抛盘和样品盘，支持转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等参数的设定。触摸屏界面操作方便，状态显示直观。加载力可在运行中调整，灵活方便。设备配备电磁阀控制水的通断，支持轻松更换磁性防粘盘，完成各种试样的粗、精磨及粗、精抛光等工序。运行精度高，噪音低，提供良好的操作体验。工作盘直径标配为φ254mm，磨盘转速范围为100-1000r/min，研磨头转速为0-100r/min，制样时间范围为0-9999秒，加载力范围为30-200N。样品夹持器标配φ30mm六个（可选配φ40-φ50mm四个，其余可定制）。使用AC220V 50Hz电源，0.75kW电机，外形尺寸为760×730×700mm，重量为120kg。

产品特点

1.中心加载力方式，一次性固定六个样品，完成全部研磨抛光过程，保证磨抛出各个样品的完整平面

2.独立控制磨抛盘和样品盘：转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数；

3.触摸屏界面：磨抛参数设定方便，状态显示直观，操作简单；

4.加载力可以在运行中调整，灵活方便。

5.通过用电磁阀来控制水的通断。

6.轻松更换磁性防粘盘，就能完成各种试样的粗、精磨及粗、精抛光等所有工序, 一盘等效于N个盘。

7.精度高，运行平稳，噪音低。

8.样品磨去层厚度控制：精准控制样品的磨去量，磨到指定位置 (选配);

9.外部滴液器控制：外部滴液器的滴液速度及滴液材料 (选配);

主要参数:

规格：LAP-2000X

工位：双盘

工作盘直径：标配φ254mm带有磁性转换盘系统

磨盘转速：100-1000转/分  转向正反转可以切换

研磨头转速：0-100r/min

制样时间范围：0-9999s

加载力范围：30-200N

加载力方式：中心加载

样品夹持器：标配φ30mm六个（选配φ40-φ50mm四个，其余可定制）

电源：AC220V，50HZ

电机功率：0.75Kw

外形尺寸（长*宽*高）：760 x 730 x 700

重量：120kg