台式纳米颗粒沉积系统(纳米团簇)
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台式纳米颗粒沉积系统(纳米团簇)
来源:科睿设备有限公司
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简介: 该系统是一种台式真空系统,可将超纯非团聚纳米颗粒直接沉积到直径达 50 毫米的任何表面上。专为共享研究或教学实验室而设计,学生和研究人员可以在各种纳米技术项目中并行使用,而不必担心交叉污染。应用包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。
产品详细

台式纳米颗粒沉积系统(纳米团簇)

台式纳米颗粒沉积系统(纳米团簇)


该系统是一种台式真空系统,可将超纯非团聚纳米颗粒直接沉积到直径达 50 毫米的任何表面上。专为共享研究或教学实验室而设计,学生和研究人员可以在各种纳米技术项目中并行使用,而不必担心交叉污染。应用包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。

主要特点

沉积无烃和非团聚的纳米颗粒

从亚单层到高孔隙率 3-D 纳米涂层

表面等离子体清洁和功能化

生成纯金属或化合物纳米颗粒,如氧化物和氮化物。

多种材料可供选择,包括 Ag、Au、Cu、Ni、Ir 和 Pt

使用石英晶体微量天平 (QCM) 进行实时沉积控制

可重复的工艺,典型循环时间为 30 分钟

室温沉积与石墨烯、膜和塑料等精密基材兼容

规格

重量:约 60 公斤(113 磅)

尺寸 :(长x宽x高)70 x 50 x 60 厘米(27.6x 19.7 x 23.6 英寸)

消耗品

目标大小 :直径 1 英寸(25.4 毫米),最大厚度 3 毫米

最大采样量: 直径 50 毫米

材料 :导电材料,包括 Ag、Au、Pt、Cu、Ni、Ti、Ir

控制软件

直观的用户界面易于使用,不需要任何真空经验。预装的沉积配方使用户能够立即开始沉积纳米颗粒。

突出

抽真空和沉积序列的完全自动化。

针对 Au、Ag 和 Pt 等常见材料的预加载优化沉积设置。

高级用户可以选择控制沉积条件,以根据他们的特定需求控制纳米颗粒的尺寸和沉积速率。

使用沉积重量或沉积时间控制纳米颗粒负载。

自动记录所有过程和真空参数。

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标签:台式纳米颗粒沉积系统,颗粒沉积系统
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