气相沉积（CVD）炉-材料制备及加工设备-加工设备-产品-中冶有色网

简介： 用做石墨或碳碳表面的碳化硅涂层、碳碳复合涂层。用途广泛如：1 碳碳复合涂层：光伏晶体炉的热场材料；2 石墨涂层：LED蓝宝石衬底MOCVD的石墨托盘；

一、设备用途：

用做石墨或碳碳表面的碳化硅涂层、碳碳复合涂层。

用途广泛如：

1 碳碳复合涂层：光伏晶体炉的热场材料

2 石墨涂层：LED蓝宝石衬底MOCVD的石墨托盘

二、设备特点：

1 立式结构，炉壳用耐腐蚀材料制成。

2 独特的内罩进排气结构，热场温度均匀性好。

3 气氛控制精确，真空系统配有过滤器，可选配尾气处理系统。

4 主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌，性能稳定、可靠。

5 配备出、装料料车，方便操作及出装料，提高工作效率。

三、主要技术参数：

京公网安备 11010702002294号

标题：气相沉积（CVD）炉

来源：上海晨华科技股份有限公司