离子氮化炉
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离子氮化炉
来源:PVA TePla 中国
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简介: PulsPlasma® 离子氮化设备是一款用于等离子体扩散工艺的真空炉,它可使零件表面富含氮和/或碳,从而提高耐磨损和耐腐蚀能力。PlaTeG脉冲等离子体®扩散工艺,特别是PulsPlasma®脉冲离子氮化(PPNTM)和PulsPlasma®脉冲离子氮碳共渗(PPNCTM)应用了等离子体扩散方法,相比于传统的氮化工艺(如盐浴软氮化或气体氮化),它为客户提供了众多优势,而且对环境友好,有助于节约资源。
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离子氮化炉

PulsPlasma® 氮化系统

PulsPlasma® 离子氮化设备是一款用于等离子体扩散工艺的真空炉,它可使零件表面富含氮和/或碳,从而提高耐磨损和耐腐蚀能力。PlaTeG脉冲等离子体®扩散工艺,特别是PulsPlasma®脉冲离子氮化(PPNTM)和PulsPlasma®脉冲离子氮碳共渗(PPNCTM)应用了等离子体扩散方法,相比于传统的氮化工艺(如盐浴软氮化或气体氮化),它为客户提供了众多优势,而且对环境友好,有助于节约资源:

工艺气体和电力消耗低

使用环保型工艺气体

灵活的处理温度,温度范围350℃ – 600℃

可选择使用机械盖板进行局部处理

用于处理高合金钢和不锈钢(保持抗腐蚀能力)

可对氮化层结构进行控制

用于处理烧结的铁/钢以及钛和有色金属

PulsPlasma®等离子体发生器技术 / 新技术

脉冲电流和电压是准方波脉冲波形,这意味着有需要的等离子体输出可以快速、最佳和几乎无损地传输到待处理零件。脉冲的开始时间和关断时间可以在30微秒到999微秒之间的任何时间编程。因此,它既可以控制氮化层的结构,又可以防止部件过热。

用于单极和/或双极操作

通过快速关断抑制电弧(< 0.1 µs)

PlaTeG PulsPlasma®发生器在室温下也能提供稳定的辉光放电等离子体

优化了PlaTeG-PPSATM技术,有助于缩短处理时间并获得均匀的渗氮结果

PlaTeG-PP120

尺寸:直径1000mm x 高度1600mm

根据装载产品和所需的处理结果,可以进行各种PulsPlasma® 扩散工艺:

PPNTM-PulsPlasma® 氮化:通过氮的扩散提高大多数钢、钛合金和铝合金的耐磨损和耐腐蚀能力;

PPCNTM- PulsPlasma®氮碳共渗:通过氮和碳的扩散增强钢的耐磨损和耐腐蚀能力;

PPCTM-PulsPlasma® 渗碳:通过碳的扩散提高不锈钢的耐磨损和耐腐蚀能力;

PPOTM-PulsPlasma®氧化处理:对钢铁表面进行氧化处理,有助于提高耐腐蚀性并降低摩擦系数;

LT-PPNTM, LT-PPNTM, LT-PPNTM对铬含量大于13%的不锈钢零件进行处理,在保持耐腐蚀性的同时还可以提高耐磨性;

设备类型 / 灵活和可靠的工艺

根据客户的需求及相关应用,可对炉子进行量身设计。

钟罩式系统(标准)

井室炉

卧式炉 (水平)

PVA TePla坚信简化系统及部件和确保安全性是相当重要的事情。为此,我们不断与时俱进,自主研发并设计出多款出色且适应性强的系统。

H-卧式炉:

用于大型和重型零件

M-单室型设备:

带有一个真空钟罩

S-交替型设备:

带有一个真空钟罩和两个钟罩底座

T-双室型设备:

带有两个真空钟罩和两个钟罩底座
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标签:离子氮化炉,氮化炉
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