工作原理

JXF-8000采用能量色散X射线荧光光谱（ED-XRF）技术，通过高压X光管激发样品表面元素，探测器捕获特征荧光X射线能量及强度，结合经验系数法与基本参数法（FP法）分析软件，实现多元素快速定量。其新型光路设计显著降低氯元素检出下限，配合开放式工作曲线平台，用户可自定义标样数据，适配复杂基体样品分析需求。

应用范围

设备广泛应用于电子电器（PCB、焊锡、连接器）、五金材料（金属板材、紧固件）、照明设备、玩具及汽车零部件等行业，支持RoHS 2.0、无卤素指令（IEC 61249-2-21）、美国CPSIA、加州65号提案等全球环保法规的合规筛查，同时适用于金属珠宝成分分析及镀层厚度检测。

技术参数

检测范围：S-U元素（含卤素Cl、Br及重金属Pb、Cd、Cr、Hg等）

检测下限：Pb≤5ppm，Cd/Cr/Hg/Br≤2ppm，Cl≤50ppm

测量时间：30-100秒/样品

探测器：美国Amptek Si-PIN探测器，分辨率140±5eV，能量响应1keV-40keV

X光管：Mo靶材，最大功率50W，电压0-50kV可调

样品室：大空间设计，支持开盖测试无限大样品（含保护机制）

产品特点

精准高效：全谱图对比功能实时追踪物料异常，满足IEC62321标准报告生成需求，支持多语种软件界面及Excel/PDF格式输出。

安全可靠：三重射线防护系统（软件+硬件+迷宫设计）与自动警示功能，确保操作人员安全。

灵活适配：开放式工作曲线平台支持用户扩展检测项目，兼容环保指令后期升级需求。

智能便捷：800万像素高清CCD定位样品，三维散热系统提升稳定性，维护成本低且操作简单。