简介： 本发明属于微电子技术领域，尤其涉及一种信息处理方法、装置、介质、校正器、模组及设备。基于光邻近效应的仿真和校正，通过对工艺参数的预处理，使得相关的测试过程的效率提高、失效率降低，该方法对于光刻工艺窗口较窄的应用场景，有较强的适应性，在预设的焦距能量矩阵范围内，提升了信息获取的效率。