简介： 本发明公开了一种用于集成电路版图失效区域定位的版图关键区域提取方法，包括确定需要提取关键区域的版图层次，对提取版图层次按格点窗口划分规则进行格点窗口划分，提取每个格点窗口内图形的线宽积值和间距积值，在历史成熟稳定生产产品中提取被定义成关键区域的积值阈值，所述积值阈值包括线宽积值阈值和间距积值阈值,根据积值阈值判断各格点窗口内图形是否为关键区域，并将关键区域提取。本发明还公开了一种版图关键区域提取系统。本发明能快速准确定位版图关键区域，相比现有技术能将新产品版图中的关键区域至少缩小为原先版图的30％，节约后续失效分析70％的周期时间，大大提升制造者的经济效益。