简介:
本发明涉及半导体工艺技术领域,本发明提供了一种扫描电镜样品的保存方法,首先提供样品,并将样品放入SEM设备中进行失效分析,接着在分析后的样品表面涂覆用于隔绝空气的保护层,然后将样品放置在大气环境中进行保存,当需要对样品再次进行失效分析时,去除样品表面的保护层,最后将样品放入SEM设备中进行失效分析。本发明提供了一种可靠易行,成本较低的扫描电镜样品的保存方法,解决了现有技术在失效分析过程中,SEM样品表面容易受损或氧化的问题,本领域技术人员采用该方法可提高失效分析的成功率,并降低失效分析的成本。
本发明涉及半导体工艺技术领域,本发明提供了一种扫描电镜样品的保存方法,首先提供样品,并将样品放入SEM设备中进行失效分析,接着在分析后的样品表面涂覆用于隔绝空气的保护层,然后将样品放置在大气环境中进行保存,当需要对样品再次进行失效分析时,去除样品表面的保护层,最后将样品放入SEM设备中进行失效分析。本发明提供了一种可靠易行,成本较低的扫描电镜样品的保存方法,解决了现有技术在失效分析过程中,SEM样品表面容易受损或氧化的问题,本领域技术人员采用该方法可提高失效分析的成功率,并降低失效分析的成本。