简介:
本发明提供了一种用于确认互连线接触高阻的测试方法,包括以下步骤:S1、在一失效样品对应的版图上获取待分析路径,所述失效样品已研磨至当层;S2、在所述失效样品的目标区域上镀上一层保护层;S3、在所述失效样品上形成两个测试通道,两个测试通道分别由所述保护层向下延伸至所述待分析路径的两个测试端口处;S4、采用两针法进行纳米探针测试,将纳米探针伸入所述测试通道并与对应的所述测试端口接触,以确定失效样品的互连线接触高阻位置。通过特殊的样品处理方法以及纳米探针设备的测试特点,能够直接对失效路径上进行测量,从而在怀疑有高阻的互连线上寻找失效位置,找出样品的失效原因,从而推动工艺的改善。
本发明提供了一种用于确认互连线接触高阻的测试方法,包括以下步骤:S1、在一失效样品对应的版图上获取待分析路径,所述失效样品已研磨至当层;S2、在所述失效样品的目标区域上镀上一层保护层;S3、在所述失效样品上形成两个测试通道,两个测试通道分别由所述保护层向下延伸至所述待分析路径的两个测试端口处;S4、采用两针法进行纳米探针测试,将纳米探针伸入所述测试通道并与对应的所述测试端口接触,以确定失效样品的互连线接触高阻位置。通过特殊的样品处理方法以及纳米探针设备的测试特点,能够直接对失效路径上进行测量,从而在怀疑有高阻的互连线上寻找失效位置,找出样品的失效原因,从而推动工艺的改善。