简介： 本申请提供了一种光刻版及晶圆或晶圆承载台沾污的检测方法。该光刻版包括版图，版图具有等第一间距分布的多个标记区域，标记区域的宽度为W1，第一间距与宽度相等，标记区域具有等第二间距分布的多个子标记，第二间距为W2。该版图的每一个子标记区域在干涉图形中均会出现一个干涉峰，当某处的标记出现异常时，对应的干涉峰也会出现偏移或振荡，能够读取到明显的干涉信号变化，因此其对沾污的检测灵敏度较高；且该版图还可以覆盖到晶圆的边缘，能够灵敏及时地检测到晶圆或晶圆承载台上的沾污，进而避免了由于沾污造成器件失效需要的返工的问题，提高了器件的产率及良率。