简介： 本申请公开了一种确定GaN cascode器件失效位置的测试分析方法，属于半导体芯片的可靠性测试领域。技术要点是：对器件的栅极漏电水平Igss进行测量；对器件在关态低漏级电压下的漏级漏电水平Idss@LV进行测量；对器件在关态高漏级电压下的漏电水平Idss@HV进行测量；通过测试结果分析对照表可以确定器件内部的失效位置，同时明确器件失效的原理和模型。有益效果：本发明所述的确定GaN cascode器件失效位置的测试分析方法将传统测试的繁琐流程简化为三步，且无需解封步骤，在保证测试分析结果准确性同时能快速准确地得出器件的失效位置和原理。