简介： 本实用新型涉及等离子化学气相沉积技术领域，公开了压力控制系统及应用了该压力控制系统的等离子体沉积设备。其中，压力控制系统包括：与真空腔体通过真空管道连接的真空泵，真空管道上设置有电控制阀门；用于测量真空腔体的真空度的真空计，真空计和电控制阀门通过可编程序控制器通信连接。本实用新型所提供的压力控制系统能够自发调节真空腔体内的压力，使得气压保持在一定范围内。