简介： 本发明公开了一种厚度在1微米以上的锇膜及其制造方法。该方法通过在玻璃基片上用PVD法镀铬膜，再在铬膜上用PVD法镀一层导电系数高、化学稳定性好的金膜，然后在金膜上电镀锇膜而成。电镀分次进行、从而使锇膜厚度达到1微米以上。本发明的锇膜可用于制备空间原子氧环境探测器，解决了传统的PVD方法淀积锇膜容易发生开裂现象以及锇层镀不厚问题。