简介： 本发明公开了一种湿法刻蚀和清洗腔体及方法，所述湿法刻蚀和清洗腔体包括：单腔腔体、药剂喷嘴、保护喷嘴、晶圆支架和预热喷嘴；所述晶圆支架用于支撑并带动所述晶圆自传，所述药剂喷嘴设置在所述晶圆的正面，所述保护喷嘴设置在所述晶圆的背面，所述晶圆正面和背面均设置有所述预热喷嘴，以上结构均设置在所述单腔腔体内部。在所述湿法作业预处理方法中，设置在所述晶圆的正面和背面的所述预热喷嘴间歇或连续喷射预热制剂，使所述晶圆的温度缓慢上升并实时监测其温度，待温度达到所述高温化学药剂的温度时停止预热。通过预热使所述晶圆温度缓慢上升、热应力缓慢释放，防止热应力破坏晶圆结构，提高晶圆的良品率。