含硅混阴离子非线性光学晶体及其制备方法和应用
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含硅混阴离子非线性光学晶体及其制备方法和应用
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简介: 本申请提供了一种含硅混阴离子非线性光学晶体,化学式为:Ba5Ga2SiO4S6,具有优良的二阶非线性光学性质,即在红外波段能够实现相位匹配,具有宽的光学带隙(如Eg=4.03eV),其粉末倍频强度可达到商用材料AgGaS2的0.65倍,且其激光损伤阈值是AgGaS2晶体的17.5倍,很好地实现了大的二阶倍频系数和宽的光学带隙的平衡,且制备方法简洁,在激光频率转换、近红外探针、光折变信息处理等高科技领域有着重要的应用价值,尤其是用于红外探测器和红外激光器。
本申请提供了一种含硅混阴离子非线性光学晶体,化学式为:Ba5Ga2SiO4S6,具有优良的二阶非线性光学性质,即在红外波段能够实现相位匹配,具有宽的光学带隙(如Eg=4.03eV),其粉末倍频强度可达到商用材料AgGaS2的0.65倍,且其激光损伤阈值是AgGaS2晶体的17.5倍,很好地实现了大的二阶倍频系数和宽的光学带隙的平衡,且制备方法简洁,在激光频率转换、近红外探针、光折变信息处理等高科技领域有着重要的应用价值,尤其是用于红外探测器和红外激光器。
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标签:化学分析
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