简介:
器皿可以具有至少部分被壁限定的内腔。所述壁具有面向所述内腔的内部表面、外表面以及由所述壁支撑的等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)涂层组。所述PECVD涂层组包括使用前体施加的水接触角为从80至180度的水阻挡涂层或层,所述前体包含具有从1至6个碳原子的饱和或不饱和的氟碳化合物前体和具有从1至6个碳原子的饱和或不饱和的烃中的至少一种。任选地,所述涂层组包括从2至1000nm厚的SiOx气体阻挡涂层或层,其中x是如通过x射线光电子能谱(XPS)测量的从1.5至2.9,以及任选地其他相关的涂层。
器皿可以具有至少部分被壁限定的内腔。所述壁具有面向所述内腔的内部表面、外表面以及由所述壁支撑的等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)涂层组。所述PECVD涂层组包括使用前体施加的水接触角为从80至180度的水阻挡涂层或层,所述前体包含具有从1至6个碳原子的饱和或不饱和的氟碳化合物前体和具有从1至6个碳原子的饱和或不饱和的烃中的至少一种。任选地,所述涂层组包括从2至1000nm厚的SiOx气体阻挡涂层或层,其中x是如通过x射线光电子能谱(XPS)测量的从1.5至2.9,以及任选地其他相关的涂层。