简介： 本发明属于电磁屏蔽实现技术领域，具体涉及一种内嵌式金属网栅的电磁屏蔽光学窗制备方法。该方法包含：(1)通过物理和化学方法清洗光学窗表面；(2)采用电子束蒸发方法生长制备Y₂O₃薄膜；(3)热处理镀膜后的光学窗口，使薄膜表面产生随机分布的网状裂纹；(4)在开裂的薄膜表面沉积金属薄膜；(5)采用等离子体大角度倾斜刻蚀方法，通过控制倾斜刻蚀时间，有效去除基底表面金属层，仅保留裂纹内部嵌入的金属材料。该方法不但适应平面光学窗，而且可以在曲面光学窗表面实现可见、或红外电磁屏蔽效果，在遥感遥测、航天航空、移动通信等军事和民用领域具有广泛应用前景。