简介： 一种化学机械抛光系统包括：压板，用以支撑抛光垫；承载头，用以保持基板并且使基板的下表面与抛光垫接触；和原位摩擦监测系统，包括摩擦传感器。摩擦传感器包括：垫部分，所述垫部分具有基板接触部分，基板接触部分具有与基板的下表面接触的上表面；和一对电容式传感器，位于基板接触部分的下方并且位于基板接触部分的相对侧上。